石墨烯薄膜的特性：

将两层单层CVD石墨烯膜转移  到285nm p掺杂的SiO ₂ / Si晶片上 

尺寸：1cmx1cm; 4包

将每个石墨烯膜连续转移到晶片上

我们的石墨烯薄膜的厚度和质量由拉曼光谱控制

该产品的石墨烯覆盖率约为98％

石墨烯薄膜是连续的，具有小孔和有机残留物

每个石墨烯薄膜主要是单层（超过95％），偶尔有小的多层岛（低于5％的双层）

每个石墨烯膜是多晶的，即它由具有不同结晶取向的晶粒组成

没有AB堆叠订单。石墨烯膜相对于彼此随机取向

薄层电阻：215-700Ω/平方

硅/二氧化硅晶片的特性：

氧化层厚度：285nm

颜色：紫罗兰色

晶圆厚度：525微米

电阻率：0.001-0.005欧姆 - 厘米

型号/掺杂剂：P /硼

方向：<100>

前表面：抛光

背面：蚀刻

应用：

石墨烯电子和晶体管

导电涂料

航空航天工业应用

支持金属催化剂

微执行器

MEMS和NEMS

化学和生物传感器

基于石墨烯的多功能材料

石墨烯研究

我们的石墨烯薄膜使用PMMA辅助转移方法制造。

有关详细信息，请参阅以下参考。

学术参考/阅读更多

石墨烯生长

在铜箔上大面积合成高质量和均匀的石墨烯薄膜科学2009年6月5日：Vol。324.没有。5932，pp.1312 - 1314

石墨烯转移

用于高性能透明导电电极的大面积石墨烯薄膜的转移，Li et.al.，Nano Lett。，2009,9（12），pp 4359-4363

走向清洁和无裂缝转移石墨烯Liang et.al.，ACS Nano，2011,5（11），pp 9144-9153