btx 47-0003说明书

btx 47-0003说明书

BTXPRESS CYTOPORATION LOW CONDUCTIVITY MEDIUM T4, 500 ML VOLUME

btxpress细胞培养低导电介质t4,500毫升体积

先进的电穿孔缓冲液设计用于BTX AgilePulse MAX大容量电穿孔系统，用于离体或体外递送DNA，RNA，寡核苷酸和siRNA

BTXpressCactoporation®MediaT4是一种先进的电穿孔缓冲液，设计用于BTX AgilePulse MAX大容量电穿孔系统，用于离体或体外递送DNA，RNA，寡核苷酸和siRNA。低电导率缓冲液经过特殊配方，可大限度地减少大体积电穿孔过程中溶液的加热，从而实现高转染效率和高细胞活力。BTXpress Cytoporation Media T4从高质量的非动物医用级试剂中无菌过滤。两种具有不同电导率的制剂可用于每种真核细胞类型的宜电导率。可以将缓冲液直接稀释在*生长培养基中用于电穿孔后细胞培养。

特点与优势

• 针对真核电穿孔应用进行了优化
• 高转染效率，高细胞活力
• 低电导率意味着小的加热或电极电弧
• 提供两种配方
• 生理pH和平衡的渗透压
• 不含动物产品
• 经过认证的RNase和DNase免费

存储信息

打开后储存在2-8°C。在-20°C至+ 50°C下短期储存（即运输）7天是可以接受的。内容可能在冻结后分开。如果冷冻，请在使用前充分混合。

建议使用

建议使用标准的无菌技术，以避免在使用过程中受到污染。*，反复洗净。BTXpressCytofusion®MediumC是一种低电导率培养基，专为电融合而设计。痕量的高电导率溶液如PBS或组织培养生长培养基可破坏融合过程。因此，在融合过程之前用BTXpressCytofusion®MediumC*清洗细胞至关重要。对于多5 x 107个细胞，建议在BTXpressCytofusion®培养基C中至少洗涤两次。对于超过5 x 107个细胞，建议至少洗涤三次。

*清洁电融合室。为避免其他离子污染源，每次使用后清洁电熔室，并用无菌去离子水*冲洗。

为了大限度地提高细胞融合效率，请在室温下使用BTXpressCytofusion®MediumC. 终洗涤之前的细胞洗涤可以在4℃下进行。虽然Cytofusion®MediumC无毒，但它不含有长期支持细胞活力的营养素。为获得宜效果，请尽量减少细胞悬浮于BTXpressCytofusion®培养基C中的时间。不建议将细胞保留在BTXpressCytofusion®MediumC中，后一次洗涤后超过1小时。

电融合后，BTXpressCytofusion®培养基中的细胞可在细胞培养基中稀释，无需洗涤细胞。将五份*培养基稀释至一份BTXpressCytofusion®MediumC的低稀释度。或者，可以在生长培养基中洗涤细胞以在培养之前*除去BTXpress Cytofusion？培养基C.

警告和免责声明

如果缺少防篡改密封或瓶子损坏，请勿使用。瓶子损坏或故意篡改可能会导致本产品受到污染。使用前检查产品是否清晰。BTXpressCytofusion®培养基仅用于研究和研究目的。它不适合人类使用。根据OSHA危害通信标准29 CFR 1910.1200进行的评估，该产品不被视为危险品。

应用 转染