glenresearch 10-1037说明书

氨基修饰剂C2 dT

5'-二甲氧基三苯甲基-5- [N-（三氟乙酰氨基乙基）-3-丙烯酰亚胺] -2'-脱氧尿苷，3'-[（2-氰基乙基）-（N，N-二异丙基）]-亚磷酰胺

产品规格

式：

C ₄₆ H ₅₄ N ₆ O ₁₀ F ₃ P

兆瓦：

938.94

固件：

402.30

CAS号：

198080-39-6

描述

序列修饰符设计用于自动合成。羧基-dT在脱保护过程中被水解，并且可以通过标准肽偶联或通过中间体N-羟基琥珀酰亚胺（NHS）酯直接偶联到含有伯氨基的分子上。在寡核苷酸合成过程中，可以分别添加氨基修饰剂dA，氨基修饰剂dC，N2-氨基修饰剂dG和两种氨基修饰剂dT产品，分别代替dA，dC，dG和dT残基。相应的氨基修饰剂支持物可以代替它们各自的脱氧核苷支持物。脱保护后，C6类似物上的伯胺通过总共7 -10个原子的间隔臂与寡核苷酸分离，并可以标记或连接到酶上。

细节

用法

• 偶联：氨基改性剂C2 dT的反应方式与普通亚磷酰胺相同。为防止副反应，请使用乙酰基保护的dC进行合成。有关更多详细信息，请参阅解除保护。
• 脱保护：无需更改合成仪制造商建议的标准方法。在标准氢氧化铵脱保护过程中，将TFA保护基去除。氨脱保护过程中发生的少量副反应可能导致不可逆地封端2-5％的胺。如果多次添加修饰符，这可能很重要。为了防止反应，使用乙酰基保护的dC进行合成，然后在30％氨/ 40％甲月安1：1（AMA）中于65°C脱保护15分钟。