羧基石墨烯

我们的设施已开发出羧基 (-COOH) 官能化石墨烯。可以通过传统的机械剥离或溶液形式的旋涂沉积在各种基材上。羧基高达3%，产品纯度99.9%。 

平均晶粒尺寸约为 1-10 微米，可悬浮在 DI、DMF 和其他极性溶剂中进行旋涂沉积。

材料、物理、生物科学和化学应用的理想选择。

氟化石墨烯

我们的设施已开发出氟化石墨烯。碳氟比为 1:1，粒径范围为 1-15 微米。电阻率为 1E11-1E12 Ohm.cm。该产品是电池、润滑、热管理和 2D 电子/基板应用的理想选择。单层可以通过机械剥离或旋涂工艺沉积到各种基材上。该产品附带详细的去角质技术指南，可让您提高单层生产率。

石墨烯泡沫镍

3D 石墨烯泡沫通过化学气相沉积 (CVD) 工艺舒适地沉积在镍泡沫箔上。镍 (Ni) 泡沫是通过在高温下进行酸反应，然后是 4 步 CVD 石墨烯生长工艺制成的。总体而言，在 C2H4 气体与 H2 气体反应后，少数层和单层石墨烯沉积在 Ni 壁上。这些材料是气体分离、催化、气体检测、传感应用的理想选择。

Ni泡沫箔上石墨烯的拉曼光谱

沉积在泡沫镍箔上的石墨烯的多孔结构

泡沫镍箔上的石墨烯泡沫图像