2dsemiconductors kish-graphite说明书
Kish 石墨已在实验室使用熔融铁碳化物冷却工艺合成，以实现研究级 Kish 石墨材料。通常 Kish 石墨是不锈钢工艺的天然副产品，通常从冷却的铁表面收集小石墨片。这个过程的目的不是生产石墨，而是专注于生产含碳杂质的铁。因此，基什石墨的纯度通常为 75%。
我们开发了铁箔冷却工艺，通过半导体级甲烷和乙烷混合物将碳溶解到厚铁箔中并仔细冷却以产生高质量的 kish 石墨片。这些晶体的尺寸从毫米到 5-6 毫米不等，具有高纯度（99.99% 或更高）和结晶度（的 vdW 结构，与 HOPG 相比易于剥落）。
实验室生长的 Kish 石墨的典型特征
| 样本量 | 单晶尺寸范围从 0.1 毫米到 3-5 毫米。每个订单包含一个*装满的 2 毫升瓶，足以长期研究消费 |
| 特性 | 半金属/狄拉克金属 |
| 剥落特性 | 很容易 |
| 生产方式 | 脱碳技术 |
